Reactive-ion etching system back end at LAAS 0503

Autor/Urheber:

Guillaume Paumier (user:guillom)

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Quelle:

Wikimedia Commons

Größe:

2592 x 3872 Pixel (4588991 Bytes)

Beschreibung:

Reactive-ion etching system back end at LAAS-CNRS technological facility in Toulouse, France.

Kommentar zur Lizenz:

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Lizenz:

CC BY-SA 3.0

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