LOCOS process DE

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Cepheiden

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Shortlink:

https://www.dewiki.de/b/23026b

Quelle:

Wikimedia Commons

Größe:

768 x 600 Pixel (20368 Bytes)

Beschreibung:

(ursprünglicher) LOCOS-Prozess für die Herstellung von Isolationsstrukturen in der Halbleitertechnik

1.-3. Abscheidung des Schichtstapels (SiO₂, Si₃N₄, Fotoresist) 4. Öffnung des Oxidationsfensters 5. Thermische Oxidation von Silicium mit Volumenzunahme

6. Rückätzen von SiO₂ und Entfernung der Nitridmaske

Lizenz:

CC-BY-SA-3.0

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