Focuses Ion Beam 1540 EsB (Zeiss), with EDX and lithography equipment.


Autor/Urheber:
Attribution:
Das Bild ist mit 'Attribution Required' markiert, aber es wurden keine Informationen über die Attribution bereitgestellt. Vermutlich wurde bei Verwendung des MediaWiki-Templates für die CC-BY Lizenzen der Parameter für die Attribution weggelassen. Autoren und Urheber finden für die korrekte Verwendung der Templates hier ein Beispiel.
Größe:
4000 x 3000 Pixel (3838341 Bytes)
Beschreibung:
Focuses Ion Beam 1540 EsB (Zeiss),with EDX and lithography equipment.
Lizenz:
Bild teilen:
Facebook   Twitter   Pinterest   WhatsApp   Telegram   E-Mail
Weitere Informationen zur Lizenz des Bildes finden Sie hier. Letzte Aktualisierung: Tue, 26 Dec 2023 14:07:06 GMT

Relevante Bilder


Relevante Artikel

Focused Ion Beam

Ein Focused Ion Beam ist ein Mittel zur Oberflächenanalyse und -bearbeitung. Steht der Materialabtrag im Vordergrund, heißt das Verfahren auch Ionendünnung. Wenn die Abtastung der Oberfläche des zu untersuchenden Objekts durch den Ionenstrahl primär als bildgebendes Verfahren eingesetzt wird, dann spricht man auch von einem Focused-Ion-Beam-Mikroskop. .. weiterlesen